眾所周知,納米材料科學與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點,在研究納米材料的表面改性時,往往要涉及潤濕接觸角這個概念。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴,固體表面上的固-液-氣三相交界點處,其氣-液界面和固-液界面兩切線把液相夾在其中時所成的角。
新表面表征、表面純度測試、固體表面處理評價、液體配方設計、表面清潔度分析、等離子清洗效果分析、固液體之間或固體黏駙特性研究、表面印刷性能的表征、玻璃(包括塑料或金屬等固體)表面潤濕性研究、分析表面改性等
可用于如下領(lǐng)域的基礎研究,應用新方法,產(chǎn)品設計以及品質(zhì)控制等。
●TFT-LCD面板行業(yè):玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測量;TFT打印電路、彩色濾光片、 ITO導體膠卷等前涂層質(zhì)量測量;半導體,平面顯示器、光學行業(yè)掩膜親水性測量
●印刷、塑膠行業(yè):表面清潔與附著質(zhì)量測量;油墨附著度測量;催化劑測量;膠水膠體性質(zhì)相容性測量;染料的緊扣度
●半導體產(chǎn)業(yè):晶圓的潔凈度測量;HMDS的處理控制;CMP的研究測量、光阻與顯影劑的研究
●化學材料研究:防水與親水性能材料研究探討;表面活性與清潔劑的張力、濕性;黏性增強與附著表面能測量
●IC封裝:基質(zhì)表面潔凈度;原子合成氧化識別;BGA焊接表面;環(huán)氧化物的附著度測量
●紙張、紙尿褲、衛(wèi)生護墊等材料的吸水性以及可印刷性等性質(zhì)分析;
●纖維、織物、碳纖維、玻璃纖維與樹脂的新功能開發(fā)、表面性質(zhì)、印染等性質(zhì)分析;
●液晶屏、硬盤、屏幕保護膜、觸摸屏、LCD、LED、光學零件、半導體芯片、Wafer、微電子等行業(yè)表面清潔度分析以及品質(zhì)控制、新材料開發(fā)研究以及等離子(Plasma)處理等表面處理效果評估;
●聚合物、高分子材料及金屬材料表面修飾、表面改性、印刷性質(zhì)等分析;
●薄膜、偏光片、膠片、感光材料的新材料開發(fā)、印刷性等分析;
●生物材料、仿生材料的研發(fā)及其應用分析,如檢測和表征蛋白質(zhì)、肺表面活性劑、表征生物相容性材料(高分子材料)的潤濕和粘附性、競爭以及粘附的蛋白質(zhì)。
●超疏水和超親水材料的研究、可潤濕性分析;
●電潤濕接觸角轉(zhuǎn)化、電透鏡研究等;
●大學實驗室研發(fā)、課題、研究等;
●GB/T 24368-2009(玻璃表面疏水污染物檢測)
●SY/T5153-2007(油藏巖石潤濕性測定方法)
●ASTM D 724-99(2003)(紙的表面可濕性的試驗方法)
●ASTM D5946-2004(塑料薄膜與水接觸角度的測量)
●ISO15989(塑料薄膜和薄板電暈處理薄膜的水接觸角度的測量)
機臺型號 MD | -200D |
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接觸角測量范圍 | 0-180 |
接觸角測量精度 | ±0.1 |
滴液方式 | 自動滴液 |
滴液馬達 | 日本精密步進馬達 精度達0.01微升 |
接觸角測試方法 | 座滴法,懸滴法 |
接觸角分析方法 | 全自動圓環(huán)擬合法,手動斜面測量法,手動橢圓擬合,曲面測量法,寬高測量法,人工切線法,動態(tài)測量法 |
接觸角圖像處理方式 | 手動處理、自動處理 |
表面能測定 | Fowks法,OWRK法,ZismanPlot法,EOS法 |
軟件功能 | 數(shù)碼CMOS攝像機 錄像/回播 瞬間截圖、按設定時間間隔截圖 錄 像任意電影單張導出 |
工作臺面尺寸 | 400mm×500mm(可定制) |
滴液移動 | 前后100mm |
試樣尺寸 | 370mm(寬)* 470mm(長) |
進樣器移動 | 根據(jù)臺面定制 |
光學系統(tǒng) | 鏡頭0.7-4.5X連續(xù)變倍 |
儀器外形尺寸 | 約800mm(寬)×1300mm(長)×1620mm(高) |
MG-200D-非標水滴角測試機
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